한국전기연구원(KERI) 전력케이블연구센터 김호섭 박사·남수현 연구원 연구팀은 산업용 코팅 장비인 스퍼터링(Sputtering)을 개조해 상온에서 한두 겹 수준의 그래핀부터 다층 그래파이트(흑연) 박막까지 기판에 직접 성장시키는 ‘직류(DC) 기반 K-스퍼터링’ 공정을 개발했다고 27일 밝혔다.
- https://v.daum.net/v/20260927174727923
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