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삼성 회로 면적 최대 14%↓ SK하닉 주변회로 분리 제작…2나노 기술전쟁

  • 등록일 2026-10-06
  • 조회수 19
첨부파일

삼성전자는 국제전자소자학회(IEDM)에서 2나노미터(㎚) 공정과 회로 설계를 최적화해 회로 면적을 최대 14% 줄인 연구 성과를 공개한다. SK하이닉스(000660)는 메모리 주변 회로와 셀을 각각 최적화하고 소자부터 패키지·시스템까지 연결하는 '인공지능(AI) 메모리 플랫폼' 개발 방향을 제시한다.

 

- https://v.daum.net/v/20260930060331927


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