동진쎄미켐, 2나노 반도체 공정 핵심 소재 ‘하이 NA’ 감광액 개발한다

  • 등록일 2023-06-20
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동진쎄미켐이 ‘하이 NA 극자외선(EUV)’용 감광액(포토레지스트, PR) 개발에 뛰어들었다. 

 

링크 : https://www.etnews.com/20230619000184


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